MRC НАУКА И ТЕХНОЛОГИИ
Научно-технологические проекты ЛИЧНОСТИ НАУКИ Международные исследования и образование Методы испытаний и исследований Стандартизация и сертификация НАНОТЕХНОЛОГИИ НОВАЯ ЭНЕРГЕТИКА СТАТЬИ НАУКА И ТЕХНОЛОГИИ


MRC ИНЖИНИРИНГ И ПРОИЗВОДСТВО
О НАС ПРОДУКЦИЯ ПРОЕКТИРОВАНИЕ, ДИЗАЙН ПРОИЗВОДСТВО ГАЛЕРЕЯ ВИДЕОГАЛЕРЕЯ ПАРТНЕРЫ ВАКАНСИИ КАРТА САЙТА

Следите за нами:


ЖУРНАЛ ДОМ
НОВОСТИ НАУКИ НОВОСТИ ИНЖИНИРИНГА СТАТЬИ

Синтез углеродных пленок электрохимическим травлением карбида кремния SiC с HF
 SEM фото карбида кремния травленого  с фтористоводородной кислотой в разных растворителях
Углеродные пленки на SiC (карбид кремния) получили множество применений, начиная от трибологии до электрического хранения энергии.

Синтез углеродных пленок электрохимическим травлением карбида кремния SiC с фтористоводородной кислотой в неводных сольвентах

Synthesis of carbon films by electrochemical etching of SiC with hydrofluoric acid in nonaqueous solvents*

Jaganathan Senthilnathana, Chih-Chiang Wenga, Wen-Ta Tsaia, Yury Gogotsib, E-mail the corresponding author, Masahiro Yoshimuraa,

a Promotion Centre for Global Materials Research (PCGMR), Department of Material Science and Engineering, National Cheng Kung University, Tainan, Taiwan

b Department of Materials Science and Engineering, and A. J. Drexel Nanotechnology Institute, Drexel University, Philadelphia, PA 19104, USA

*In Press, Accepted Manuscript, Available online 24 January 2014, http://dx.doi.org/10.1016/j.carbon.2014.01.028

Углеродные пленки на SiC (карбид кремния) получили множество применений, начиная от трибологии до электрического хранения энергии. Образования эпитаксиальных или гетероэпитаксиальных слоев углерода на SiC в мягком растворе, такие как электро-или фотохимические, могут быть интересны для различных областей применения и снижения энергоемкости, что делает процесс совместимым с изготовлением электронных устройств. Исследователи показали формирование углеродного слоя на керамике карбида кремния с помощью электрохимического травления в неводном электролите.

Ученые провели селективное травление кремния Si из карбида кремния SiC в одностадийной реакции с фтористоводородной кислотой (HF) в различных органических растворителях, и исследовали роль полярности, поверхностного натяжения, плотности и вязкости органических растворителей в формировании углеродного слоя. Раствор фтористоводородной кислоты HF и этанола (в соотношении 1:4.6) при малых плотностях тока (10 и 20 мА/см2) позволяет лучше контролировать процесс селективного травления кремния Si с последующим образованием аморфного и упорядоченного углерода на поверхности SiC.

Подробнее о синтезе углеродных пленнок на www.mrc.org.ua

 
< Пред.   След. >


MRC ltd. / Kiev MATERIALS RESEARCH CENTRE    
www.dom.ua    

Наука
05.10.2016 15:56
Защитное покрытие из наноматериала максена MXene для отражения и поглощения электромагнитных помех
Максен это тонкий и легкий наноматериал, который обладает уникальной способностью блокировать и поглощать электромагнитное излучение
Группа исследователей из Университета Дрекселя и Корейского института науки и технологий работает над очисткой от таких электромагнитных помех с помощью нанесения на компоненты тонкой защитной пленки наноматериала под названием Максин.
Подробнее...
 
21.07.2016 16:33
Профессор Юрий Гогоци был награжден престижной премией 2016 Nano Energy Award, 15 июля 2016 в Пекине
Лауреат премии 2016 Nano Energy Award проф. Юрий Гогоци (Университет Дрекселя, США)
Профессор Юрий Гогоци сделал огромный вклад в изучение и понимание механизмов емкостного наколения энергии
Подробнее...
 
10.05.2016 15:12
Поздравляем профессора Юрия Гогоци с победой в премии 2016 Nano Energy Award!
Лауреат премии 2016 Nano Energy Award проф. Юрий Гогоци (Университет Дрекселя, США)
Победителем престижной международной научной премии 2016 Nano Energy Award стал профессор Юрий Гогоци, директор Института наноматериалов Университета Дрекселя
Подробнее...
 
MRC Ltd. Центр Материаловедения
г. Киев, ул. Кржижановского 3
Телефон: +38 (044) 233-24-43
Телефон: +38 (044) 237-71-87
Fax: +38 (044) 502-41-49
E-mail:
Мы работаем ПН - СБ с 10:00 до 18:00
Лицензия Creative Commons

Фотографии проектов реализованных компанией MRC TM "ДОМ", а также статьи и видеозаписи публикуются на условиях лицензии Creative Commons Атрибуция — С сохранением условий
(Attribution-ShareAlike) 3.0 Unported. Вы можете бесплатно копировать, распрострянять, изменять материалы с обязательной ссылкой на автора.

Яндекс цитирования  
); document.write(unescape(Методики испытаний и исследований width=tr style= /aреализованных компанией text/javascript Огражденияspan class= 0.11