MRC НАУКА И ТЕХНОЛОГИИ
Научно-технологические проекты ЛИЧНОСТИ НАУКИ Международные исследования и образование Методы испытаний и исследований Стандартизация и сертификация НАНОТЕХНОЛОГИИ НОВАЯ ЭНЕРГЕТИКА СТАТЬИ НАУКА И ТЕХНОЛОГИИ


MRC ИНЖИНИРИНГ И ПРОИЗВОДСТВО
О НАС ПРОДУКЦИЯ ПРОЕКТИРОВАНИЕ, ДИЗАЙН ПРОИЗВОДСТВО ГАЛЕРЕЯ ВИДЕОГАЛЕРЕЯ ПАРТНЕРЫ ВАКАНСИИ КАРТА САЙТА

Следите за нами:


ЖУРНАЛ ДОМ
НОВОСТИ НАУКИ НОВОСТИ ИНЖИНИРИНГА СТАТЬИ

Синтез углеродных пленок электрохимическим травлением карбида кремния SiC с HF
 SEM фото карбида кремния травленого  с фтористоводородной кислотой в разных растворителях
Углеродные пленки на SiC (карбид кремния) получили множество применений, начиная от трибологии до электрического хранения энергии.

Синтез углеродных пленок электрохимическим травлением карбида кремния SiC с фтористоводородной кислотой в неводных сольвентах

Synthesis of carbon films by electrochemical etching of SiC with hydrofluoric acid in nonaqueous solvents*

Jaganathan Senthilnathana, Chih-Chiang Wenga, Wen-Ta Tsaia, Yury Gogotsib, E-mail the corresponding author, Masahiro Yoshimuraa,

a Promotion Centre for Global Materials Research (PCGMR), Department of Material Science and Engineering, National Cheng Kung University, Tainan, Taiwan

b Department of Materials Science and Engineering, and A. J. Drexel Nanotechnology Institute, Drexel University, Philadelphia, PA 19104, USA

*In Press, Accepted Manuscript, Available online 24 January 2014, http://dx.doi.org/10.1016/j.carbon.2014.01.028

Углеродные пленки на SiC (карбид кремния) получили множество применений, начиная от трибологии до электрического хранения энергии. Образования эпитаксиальных или гетероэпитаксиальных слоев углерода на SiC в мягком растворе, такие как электро-или фотохимические, могут быть интересны для различных областей применения и снижения энергоемкости, что делает процесс совместимым с изготовлением электронных устройств. Исследователи показали формирование углеродного слоя на керамике карбида кремния с помощью электрохимического травления в неводном электролите.

Ученые провели селективное травление кремния Si из карбида кремния SiC в одностадийной реакции с фтористоводородной кислотой (HF) в различных органических растворителях, и исследовали роль полярности, поверхностного натяжения, плотности и вязкости органических растворителей в формировании углеродного слоя. Раствор фтористоводородной кислоты HF и этанола (в соотношении 1:4.6) при малых плотностях тока (10 и 20 мА/см2) позволяет лучше контролировать процесс селективного травления кремния Si с последующим образованием аморфного и упорядоченного углерода на поверхности SiC.

Подробнее о синтезе углеродных пленнок на www.mrc.org.ua

 
< Пред.   След. >


MRC ltd. / Kiev MATERIALS RESEARCH CENTRE    
www.dom.ua    

Наука
05.06.2017 00:08
Профессор Юрий Гогоци о нанотехнологиях в области хранения энергии на World Science Festival 2017
Юрий Гогоци на World Science Festival 2017
Среди экспертов в студии World Science Fair 2017 выдающийся ученый из Университета Дрекселя профессор Юрий Гогоци, лауреат премии имени Фреда Кавли.
Подробнее...
 
04.06.2017 00:22
Открытая лекция выдающегося ученого мирового уровня профессора Юрия Гогоци в Киеве, 7 июня 19:00
Юрий Гогоци
Ученый расскажет, как сочетаются инновации и фундаментальные исследования, сколько будут работать традиционные батарейки и аккумуляторы в будущем и какими будут источники света.
Подробнее...
 
05.10.2016 15:56
Защитное покрытие из наноматериала максена MXene для отражения и поглощения электромагнитных помех
Максен это тонкий и легкий наноматериал, который обладает уникальной способностью блокировать и поглощать электромагнитное излучение
Группа исследователей из Университета Дрекселя и Корейского института науки и технологий работает над очисткой от таких электромагнитных помех с помощью нанесения на компоненты тонкой защитной пленки наноматериала под названием Максин.
Подробнее...
 
MRC Ltd. Центр Материаловедения
г. Киев, ул. Кржижановского 3
Телефон: +38 (044) 233-24-43
Телефон: +38 (044) 237-71-87
Fax: +38 (044) 502-41-49
E-mail:
Мы работаем ПН - СБ с 10:00 до 18:00
Лицензия Creative Commons

Фотографии проектов реализованных компанией MRC TM "ДОМ", а также статьи и видеозаписи публикуются на условиях лицензии Creative Commons Атрибуция — С сохранением условий
(Attribution-ShareAlike) 3.0 Unported. Вы можете бесплатно копировать, распрострянять, изменять материалы с обязательной ссылкой на автора.

Яндекс цитирования  
); document.write(unescape(Методики испытаний и исследований width=tr style= /aреализованных компанией text/javascript Огражденияspan class= 0.1